一、光刻膠

　　光刻膠是進行微細圖形加工，制造微電子器件和印制電路板的一種關鍵化學品，按反應機理及顯影原理，可分為正型光刻膠和負型光刻膠。按曝光光源可分為可見光刻膠和紫外光刻膠和輻射光刻膠。

二、電子特種氣體

電子特種氣體主要用于電子工業加工的保護、摻雜、蝕刻、離子注入、氣相沉積等工序，包括純氣和純氣混和氣。

三、電子封裝材料

　　電子封裝材料主要用于承載電子元器件及其相互聯線，起機械支持、密封環境保護、信號傳遞、散熱和屏蔽等作用的基體材料。

四、高純試劑

高純試劑，又稱工藝化學品或濕化學品，是大規模和超大規模集成電路制作過程中的關鍵性基礎化工材料，主要用于生產過程中的清洗、光刻、蝕刻和去膠等，其純度和潔凈度對于集成電路的成品率、電性能及可靠性均有十分重要的影響。

五、平板顯示(FPD)專用化學品

　　平板顯示涵蓋液晶顯示(TFT-LCD)、等離子體顯示(PDP)、有機發光顯示(OLED)、電子紙顯示(E-Paper)等顯示技術。涉及的電子化學品主要包括玻璃基板、彩色濾光片、偏光片、掩膜版、熒光粉等。

六、印制電路板材料及配套化學品

　　印制電路板材料及配套化學品包括電路基材、樹脂、油墨、抗蝕工藝用化學品、腐蝕劑及鍍敷化學品等。

七、其他電子化學品

　　電子工業中涉及的電子化學品材料除上述大類外，還包括混成電路用化學品、電容器用材料、電器涂料、導電聚合物等其他電子電氣用化學品。

電子級氫氟酸介紹

      氫氟酸，英文名 Hydrofluoric Acid,分子式HF,為無色透明液體 ,相對密度1.15～1 .18,沸點 112 . 2 ℃,在空氣中發煙 ,有刺激性氣味 ,劇毒。能與一般金屬、 金屬氧化物以及氫氧化物發生反應 ,生成各種鹽類。腐蝕性極強 ,能侵蝕玻璃和硅酸鹽而生成氣態的四氟化硅。易溶于水、醇 ,難溶于其他有機溶劑。

      世界高端半導體市場長期以來被日本占領，經過經10年的發展，中國涌現出以安集、新陽、多氟多、江峰等企業為代表的高端電子化學品企業，根據用途的不同，電子級氫氟酸被分為EL、UP、UPS、UPSS。其中UPSS級別是目前較先進的級別，國內目前僅有多氟多生產和大規模應用。

       高純電子化學品又稱濕電子化學品，品種類繁多，比如氫氟酸、光刻膠、氟化聚酰胺等，應用廣泛，是微電子、光電子濕法工藝制程中使用的各種電子化工材料。超凈高純試劑一般要求塵埃顆粒粒徑控制在 0.5?m 以下，雜質含量低于ppm 級（10-6 為 ppm，10-9 為 ppb，是 10-12為 ppt）的化學試劑，是化學試劑中對顆粒粒徑控制、雜質含量要求高的試劑。目前廣泛運用于半導體、太陽能硅片、LED 和平板顯示等電子元器件的清洗和蝕刻等工藝環節。在半導體制造過程中，電子級氫氟酸主要用于晶圓表面清洗、芯片加工過程的清洗和腐蝕等。資料顯示，在半導體制程中，有50多個環節需要使用高純度電子氟化氫，足見其重要性。不過，相對于其他領域的應用來說，半導體制造對于電子級氫氟酸的品質和純度要求也更高。

       目前我公司供應的電子級化學品有：電子級硫酸、電子級硝酸、電子級鹽酸、電子級氫氟酸、電子級過氧化氫，歡迎各屆人士來電咨詢。